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四氟化碳这种含氟有机化合物作为蚀刻二氧化硅和氮化硅这样的介质材料已成熟运用多年,也是目前微电子工业中用量z大的等离子蚀刻气体。其混合气体即四氟化碳和氧气的混合、与氢的混合均在硅系列、薄膜蚀刻领域广泛应用。同时在低温下可作为低温流体用,也在制冷、气体绝缘、氟化剂、表面处理剂和激光气体泄漏检验剂有一定的应用空间。四氟化碳的广泛应用,其产品质量要求也相应的较为明确、规范。目前行业内较为成熟的分析方法主要检测四氟化碳中的氧(O2)、氮(N2)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、六氟化硫(SF6)、水分(H2O)、氟化物(以HF计)和氟碳化合物杂质。氟碳化合物一般含有六氟乙烷(C2F6)、八氟丙烷(C3F8)和氟甲烷(CHmFn)。正常情况通过配备有PDD检测器的气相色谱加上中心切割都能够完成全部杂质的定性和定量,作为不活泼气体四氟化碳的水分分析也较为简单常规